Mariusz Sochacki

About Mariusz Sochacki

Mariusz Sochacki, With an exceptional h-index of 13 and a recent h-index of 8 (since 2020), a distinguished researcher at Politechnika Warszawska, specializes in the field of Wide bandgap semiconductors.

His recent articles reflect a diverse array of research interests and contributions to the field:

Nowe technologie półprzewodnikowe na rzecz poszanowania energii

Influence of gate dielectric in FET structure on the possibilities of cell viability identification

Nowe technologie na rzecz miniaturyzacji i poprawy sprawności energetycznej urządzeń elektrycznych

Otrzymywanie i właściwości tranzystorów polowych z bramką z nanostrukturalnej warstwy C-Pd

Opracowanie technologii wytwarzania kontaktów omowych dla wertykalnych przyrządów mocy na bazie GaN

Porównanie możliwości detekcji wodoru przez tranzystor polowy z bramką C‐nPd oraz warstwę rezystancyjną C‐nPd

Technologia i charakteryzacja modyfikowanych struktur ISFET na potrzeby detekcji awidyny

Technologia wytwarzania tlenku krzemu jako dielektryka polowego w obszarze terminacji JTE w wysokonapięciowych diodach p‐i‐n

Mariusz Sochacki Information

University

Position

Institute of Microelectronics and Optoelectronics

Citations(all)

558

Citations(since 2020)

234

Cited By

382

hIndex(all)

13

hIndex(since 2020)

8

i10Index(all)

19

i10Index(since 2020)

5

Email

University Profile Page

Google Scholar

Mariusz Sochacki Skills & Research Interests

Wide bandgap semiconductors

Top articles of Mariusz Sochacki

Title

Journal

Author(s)

Publication Date

Nowe technologie półprzewodnikowe na rzecz poszanowania energii

Mariusz Sochacki

2023

Influence of gate dielectric in FET structure on the possibilities of cell viability identification

Piotr Firek

Kinga Kondracka

Anna Kiepura

Michał Waśkiewicz

Sławomir Lewicki

...

2023

Nowe technologie na rzecz miniaturyzacji i poprawy sprawności energetycznej urządzeń elektrycznych

Mariusz Sochacki

2023

Otrzymywanie i właściwości tranzystorów polowych z bramką z nanostrukturalnej warstwy C-Pd

Elżbieta Czerwosz

Halina Wronka

Piotr Firek

Sławomir Krawczyk

Mirosław Kozłowski

...

2023

Opracowanie technologii wytwarzania kontaktów omowych dla wertykalnych przyrządów mocy na bazie GaN

Oskar Sadowski

Maciej Kamiński

Jarosław Tarenko

Magdalena Zadura

Anna Szerling

...

2022

Porównanie możliwości detekcji wodoru przez tranzystor polowy z bramką C‐nPd oraz warstwę rezystancyjną C‐nPd

Przegląd Elektrotechniczny

Sławomir Krawczyk

Elżbieta Czerwosz

Halina Wronka

Piotr Firek

Mariusz Sochacki

...

2022

Technologia i charakteryzacja modyfikowanych struktur ISFET na potrzeby detekcji awidyny

Przegląd Elektrotechniczny

Kinga Kondracka

Piotr Firek

Magdalena Jaworowska

Mariusz Sochacki

2022/10/1

Technologia wytwarzania tlenku krzemu jako dielektryka polowego w obszarze terminacji JTE w wysokonapięciowych diodach p‐i‐n

Bartłomiej Stonio

Norbert Kwietniewski

Mariusz Sochacki

2022

Comparison of Field Effect Transistor with C-nPd gate and resistive C-nPd film sensing properties toward hydrogen.

Przeglad Elektrotechniczny

Sławomir Krawczyk

Elżbieta Czerwosz

Halina Wronka

Piotr Firek

Mariusz Sochacki

...

2022/9/1

Własności elektryczne izotypowych i anizotypowych heterozłączy ZnO/4H-SiC

Andrzej Taube

Mariusz Sochacki

Norbert Kwietniewski

Aleksander Werbowy

Jan Szmidt

...

2022

Technologia wytwarzania sub-mikrometrowych diod tunelowych typu MIM.

Przeglad Elektrotechniczny

Bartłomiej Stonio

Piotr Wiśniewski

Maciej Haras

Mariusz Sochacki

2022/2/1

Porównanie właściwości sensorycznych tranzystorów z warstwą C-Pd oraz warstw C-Pd

Sławomir Krawczyk

Mirosław Kozłowski

Elżbieta Czerwosz

Halina Wronka

Piotr Firek

...

2022

Otrzymywanie i właściwości tranzystorów z bramką C-Pd

Piotr Firek

Elżbieta Czerwosz

Halina Wronka

Sławomir Krawczyk

Mariusz Sochacki

...

2022

Development of assembly techniques for connection of AlGaN/GaN/Si chips to DBC substrate

Circuit World

Ryszard Kisiel

Marek Guziewicz

Andrzej Taube

Maciej Kaminski

Mariusz Sochacki

2021/6/8

Reactive ion etching of 4H-SiC with BCl3 plasma

Power [W]

Bartłomiej Stonio

Norbert Kwietniewski

Piotr Firek

Mariusz Sochacki

2021/2/1

Review: Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Silicon Carbide. Materials 2022, 15, 123

K Racka-Szmidt

B Stonio

J Zelazko

M Filipiak

MA Sochacki

2021

Technologia wytwarzania i charakteryzacja diod pin na SiC w klasie napięciowej 1, 7kV

Mariusz Sochacki

Norbert Kwietniewski

Maciej Kamiński

Marcin Myśliwiec

Jan Szmidt

2021

TiAl-based Ohmic Contacts to p-type 4H-SiC

International Journal of Electronics and Telecommunications

Agnieszka Martychowiec

Norbert Kwietniewski

Kinga Kondracka

Aleksander Werbowy

Mariusz Sochacki

2021

A review: Inductively coupled plasma reactive ion etching of silicon carbide

Katarzyna Racka-Szmidt

Bartłomiej Stonio

Jarosław Żelazko

Maciej Filipiak

Mariusz Sochacki

2021/12/24

Usuwanie fotorezystu w technologii mikroelektronicznej metodą suchego trawienia RIE

Agnieszka Martychowiec

Kinga Kondracka

Norbert Kwietniewski

Mariusz Sochacki

2020

See List of Professors in Mariusz Sochacki University(Politechnika Warszawska)